特許情報  > Cセクション 化学;冶金  > C23C:2012年


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スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法

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スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法

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【図1】
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特開2012−46771【図1】


【図2】
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特開2012−46771【図2】


【図3】
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特開2012−46771【図3】


【図4】
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特開2012−46771【図4】