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セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法

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セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法

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【図1】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図1】


【図2】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図2】


【図3】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図3】


【図4】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図4】


【図5】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図5】


【図6】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図6】


【図7】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図7】


【図8】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図8】


【図9】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図9】


【図10】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図10】


【図11】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図11】


【図12】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図12】


【図13】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図13】


【図14】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図14】


【図15】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図15】


【図16】
セルストリングの製造方法及びこれを含む不揮発性メモリ装置の製造方法 - 特開2012−49539【図16】