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C07F 炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
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- 特開2009−1572:SiHを有するシランの製造方法
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- 特開2009−7270:ルテニウム化合物の製造方法および薄膜の製造方法
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- 特開2009−7312:シクロヘキシルメチルホスホナート誘導体
- 特開2009−7340:リン酸化物
- 特開2009−7377:複素環式ボロン酸化合物
- 特開2009−13085:有機重合体用硬化触媒及びそれを含有する湿気硬化型組成物
- 特開2009−13099:N−アルキルボラジンの製造方法
- 特開2009−13167:有機金属錯体、発光材料、発光素子、発光装置及び電子機器
- 特開2009−13168:有機金属錯体および前記錯体を用いた発光素子、発光装置、並びに電子機器
- 特開2009−19035:遷移金属錯体、その配位子、オレフィン重合用触媒及びオレフィン重合体の製造方法
- 特開2009−23942:リン含有α−アミノ酸の製造法およびその製造中間体としてのリン含有ニトロ誘導体
- 特開2009−23966:アルコキシ置換シクロトリシロキサン化合物の製造法
- 特開2009−35539:有機金属化合物の調製方法
- 特開2009−40721:電気化学発光標識を持つ直鎖化合物
- 特開2009−46400:殺虫性化合物の製造中間体およびその製造方法
- 特開2009−51747:ビアリールホスフィン化合物の製造方法
- 特開2009−57297:ホスホニウムイオン液体、ビアリール化合物の製造方法およびイオン液体の使用方法
- 特開2009−62302:[1]ベンゾカルコゲノ[3,2−b][1]ベンゾカルコゲノフェン骨格を有する化合物およびこれを用いた有機トランジスタ
- 特開2009−62343:非架橋型層状ホスホン酸金属化合物及びその製造方法
- 特開2009−62359:化学的化合物
- 特開2009−62361:新規な赤色エレクトロルミネッセンス化合物およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンスデバイス
- 特開2009−67696:メタロセン化合物およびその製造方法
- 特開2009−67697:メタロセン化合物およびその製造方法
- 特開2009−67698:メタロセン化合物およびその製造方法
- 特開2009−67705:バナジウムのモノシクロペンタジエニル錯体の製造方法
- 特開2009−67757:遷移金属イオン錯体、その製造方法及び重合体の製造方法
- 特開2009−67778:放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンの製造方法及び放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミン
- 特開2009−67779:遷移金属錯体及び該錯体を用いる共役芳香族化合物の製造方法
- 特開2009−67787:ピペラジンポリホスファート、その製造方法およびその使用
- 特開2009−73758:アミジン−カルボン酸錯体
- 特開2009−73799:ナノコンポジット
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- 特開2009−73849:アルミノキサン類の製造方法
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- 特開2009−84251:2,4−二置換または2,3,5−三置換メタロール
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- 特開2008−1619:シクロヘプタトリエニルパラジウム化合物及びその製造法
- 特開2008−1647:テトラヒドロピランを溶媒とするアルキルグリニャール試薬の製造方法
- 特開2008−1672:リチウム塩およびその製造方法
- 特開2008−7471:有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法
- 特開2008−7500:金属錯体及び有機発光素子
- 特開2008−7521:アダマンチルリチウム組成物
- 特開2008−13498:ホウ素含有化合物およびこれを用いたリポソーム
- 特開2008−13503:有機金属アミド化合物及びその製造方法、アミド化合物複合体及びその製造方法、並びに、水素貯蔵材料
- 特開2008−13544:新規エポキシ化合物とその製造方法
- 特開2008−19231:アミンボランの製造方法
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