特許情報 > 1997年 > 平成9年(1997)1月10日
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平成9年(1997)1月10日 公開の特許一覧
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4898件中、401~450件を表示 - 特開平9−5202 :真空漏れ試験装置
- 特開平9−5203 :構造物内部の気泡検出装置
- 特開平9−5204 :泡径調節型水中気泡発生装置
- 特開平9−5205:光ファイバの端面検査方法
- 特開平9−5206 :光学装置の評価方法
- 特開平9−5207 :異径コア光ファイバの融着接続部の評価方法
- 特開平9−5208 :光線路識別方法
- 特開平9−5209 :ホログラム検査装置及び方法
- 特開平9−5210 :ツリー型およびスター型カプラーの特性評価装置
- 特開平9−5211 :屈折力測定装置
- 特開平9−5212:光ファイバ増幅器評価方法および装置
- 特開平9−5213 :光スイッチ
- 特開平9−5214 :内燃機関シリンダブロックを流体静力学的に試験する装置
- 特開平9−5215 :内燃機関制御装置
- 特開平9−5216 :タイヤ騒音シミュレート方法及びその装置
- 特開平9−5217 :耐熱低合金鋼の初期疲労損傷評価法
- 特開平9−5218 :ミルクサンプリング装置
- 特開平9−5219 :ガス検知管用定量ポンプ
- 特開平9−5220 :円盤状試験体における疲労亀裂の導入方法
- 特開平9−5221 :表面処理方法及びその装置
- 特開平9−5222:分析用粒状物体の分離装置
- 特開平9−5223 :自動伸び検出方法
- 特開平9−5224 :耐摩耗性評価試験装置の接触面圧補正方法及び装置
- 特開平9−5225 :耐摩耗性評価試験装置におけるテストピースの昇温防止装置
- 特開平9−5226 :土壌水分計
- 特開平9−5227 :ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置
- 特開平9−5228 :液中微粒子検出装置および処理装置
- 特開平9−5229 :電子機器の加速寿命試験方法
- 特開平9−5230 :樹脂対金属の摩擦係数測定装置
- 特開平9−5231 :被覆鋼材の接着耐久性評価方法
- 特開平9−5232 :多重反射セル及びその調整方法
- 特開平9−5233 :ガスの分光分析装置
- 特開平9−5234 :非破壊糖度測定装置
- 特開平9−5235 :煙感知器の作動試験用エアゾル缶
- 特開平9−5236 :生体組織を用いた情報処理装置
- 特開平9−5237 :ラマンスペクトル測定装置及び測定方法
- 特開平9−5238 :新規化学発光ラベル化剤と、カテコールアミン類の測定方法およびその装置
- 特開平9−5239 :窒素酸化物濃度測定装置
- 特開平9−5240 :被検体の比色測定と電気化学的測定を同時に行う方法および試験薬
- 特開平9−5241 :化学発光分析試薬の安定化
- 特開平9−5242 :カテコールアミン類測定方法
- 特開平9−5243 :細胞内イオン濃度変化および膜電位変化同時測定方法
- 特開平9−5244 :水濡れ検出装置および水濡れ表示機能を備えた湿度測定装置
- 特開平9−5245 :画質判定方法
- 特開平9−5246 :タイヤ成形機のゴム接合状態監視装置
- 特開平9−5247 :刻印分離方法および光学部材検査装置
- 特開平9−5248 :光学部材検査方法
- 特開平9−5249 :光学部材検査装置
- 特開平9−5250 :基板表面の異物検査方法及び検査装置
- 特開平9−5251 :欠陥検査装置
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