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平成１１年（１９９９）３月１６日 公開の特許一覧
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5496件中、401～450件を表示 - 特開平１１−７０３０１ ：廃塗料含有水の処理剤
- 特開平１１−７０３０２ ：汚濁物類の浄化分離処理剤
- 特開平１１−７０３０３ ：押出成形機のストレーナ
- 特開平１１−７０３０４ ：速効性に優れた抗菌フィルタ材及びその製造方法
- 特開平１１−７０３０５ ：濾材及びエアフィルタ−
- 特開平１１−７０３０６ ：水域浄化設備、水域浄化用マット、水域浄化用マットの押え杭用案内装置、ヘドロ回収設備および濾過式水域浄化装置の濾過材支持体
- 特開平１１−７０３０７ ：集塵装置
- 特開平１１−７０３０８ ：天井取付用空気清浄器
- 特開平１１−７０３０９ ：粒状物質を除去する装置
- 特開平１１−７０３１０ ：空気清浄装置
- 特開平１１−７０３１１ ：換気装置
- 特開平１１−７０３１２ ：半径流式の容器のための吸着剤の多重充填方法及び装置
- 特開平１１−７０３１３ ：空気浄化フィルタとその製造方法及び高度清浄装置
- 特開平１１−７０３１４ ：集積固体電解質イオン導体分離器−冷却器
- 特開平１１−７０３１５ ：高温ガスの処理方法
- 特開平１１−７０３１６ ：排ガスの脱硫方法
- 特開平１１−７０３１７ ：煙道ガスから二酸化硫黄を除去する方法
- 特開平１１−７０３１８ ：燃焼排ガス脱硝法
- 特開平１１−７０３１９ ：無機ハロゲン化ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置
- 特開平１１−７０３２０ ：ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置
- 特開平１１−７０３２１ ：排オゾン処理装置
- 特開平１１−７０３２２ ：フッ素含有化合物の分解処理方法、触媒及び分解処理装置
- 特開平１１−７０３２３ ：鉛−２１０アイソトープの原子蒸気レーザ・アイソトープ分離
- 特開平１１−７０３２４ ：中空糸膜モジュール
- 特開平１１−７０３２５ ：膜ろ過装置の運転方法
- 特開平１１−７０３２６ ：ポリアクリロニトリル系膜
- 特開平１１−７０３２７ ：分散装置
- 特開平１１−７０３２８ ：薬液定量注入装置および方法
- 特開平１１−７０３２９ ：二酸化炭素の海洋への放流装置
- 特開平１１−７０３３０ ：酸素吸収剤及びその再生方法
- 特開平１１−７０３３１ ：脱酸素成分
- 特開平１１−７０３３２ ：内燃機関用排気ガス浄化触媒およびその製造方法
- 特開平１１−７０３３３ ：Ｃ−原子数４の炭化水素を気相酸化して無水マレイン酸にするためのシェル型触媒、その製法及びＣ−原子数４の炭化水素の気相酸化法
- 特開平１１−７０３３４ ：触媒組成物とそれを用いた芳香族炭化水素の転化方法
- 特開平１１−７０３３５ ：有機錫スルホン酸塩触媒とその製法
- 特開平１１−７０３３６ ：板状触媒の製造装置
- 特開平１１−７０３３７ ：触媒または触媒担体の成形装置および成形方法
- 特開平１１−７０３３８ ：排ガス浄化用触媒層、排ガス浄化用触媒被覆構造体およびこれを用いた排ガス浄化方法
- 特開平１１−７０３３９ ：クラッシュミル用カッターおよびその製造方法
- 特開平１１−７０３４０ ：流動層・ジェット粉砕のための方法及び装置
- 特開平１１−７０３４１ ：衝突式気流粉砕機及びトナーの製造方法
- 特開平１１−７０３４２ ：湿式分級装置
- 特開平１１−７０３４３ ：空気清浄装置
- 特開平１１−７０３４４ ：電気集塵装置及びそれに使用される集塵極
- 特開平１１−７０３４５ ：帯電式異物回収装置
- 特開平１１−７０３４６ ：遠心分離機のドレン排出装置
- 特開平１１−７０３４７ ：流体噴射ノズル
- 特開平１１−７０３４８ ：塗装するための方法及び装置
- 特開平１１−７０３４９ ：塗布装置
- 特開平１１−７０３５０ ：階調再現式塗装システム並びに該システムを用いた塗装方法及び被塗物
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