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平成１１年（１９９９）３月２３日 公開の特許一覧
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4700件中、4651～4700件を表示 - 特開平１１−８００５１ ：１，３−ジメチル−３−フェニル−１−（２−メチル−２−フェニルプロピル）インダン臭素化物及びその製造法
- 特開平１１−８００５２ ：気相接触酸化反応方法及び反応器
- 特開平１１−８００５３ ：光学活性アルコール化合物の製造方法
- 特開平１１−８００５４ ：光学活性アルコールおよびその製造法
- 特開平１１−８００５５ ：α−フェニルエチルアルコールの製造方法
- 特開平１１−８００５６ ：環状アルコールの分離取得方法
- 特開平１１−８００５７ ：フェノール類の製造方法
- 特開平１１−８００５８ ：フェノール類の製造方法
- 特開平１１−８００５９ ：カテコールモノエーテル類またはカテコール類の製法
- 特開平１１−８００６０ ：テトラキスフェノールの製造方法
- 特開平１１−８００６１ ：α、α′−ビス（ビニルオキシアルコキシ）キシレンおよびその製造法並びにその硬化物
- 特開平１１−８００６２ ：ビス｛β−（ｐ−メトキシフェノキシ）エチル｝エーテルの製造方法
- 特開平１１−８００６３ ：エーテル類の製造法
- 特開平１１−８００６４ ：エ−テル結合を有するフルオロアルコキシベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子
- 特開平１１−８００６５ ：アルデヒドの製造方法
- 特開平１１−８００６６ ：イソブチルアルデヒドの製造法
- 特開平１１−８００６７ ：トリシクロデカンジカルバルデヒドの製造法
- 特開平１１−８００６８ ：トリシクロデカンジアルデヒドの製造方法
- 特開平１１−８００６９ ：酸化方法
- 特開平１１−８００７０ ：キラルβ−ヒドロキシケトンの製造法
- 特開平１１−８００７１ ：ペルフルオロカルボン酸ハライドの製造方法
- 特開平１１−８００７２ ：高純度低級飽和脂肪族カルボン酸ヒドロキシルアミンの製造方法
- 特開平１１−８００７３ ：含フッ素アルキルカルボン酸と該含フッ素アルキルカルボン酸を含有する潤滑剤層を設けた磁気記録媒体
- 特開平１１−８００７４ ：高純度２，６−ナフタレンジカルボン酸の製造法
- 特開平１１−８００７５ ：２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、そのエステル類及びその製造法
- 特開平１１−８００７６ ：２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸、そのエステル類及びその製造法
- 特開平１１−８００７７ ：メタクリル酸メチルの製造方法
- 特開平１１−８００７８ ：エステル化合物の製造方法
- 特開平１１−８００７９ ：４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアセテート
- 特開平１１−８００８０ ：グリコールエステル誘導体の製造方法
- 特開平１１−８００８１ ：液晶性（メタ）アクリレート化合物と組成物及びこれを用いた光学異方体
- 特開平１１−８００８２ ：（メタ）アクリル酸高級アルキルエステルの製造法
- 特開平１１−８００８３ ：エイコサペンタエン酸エステルの製造方法
- 特開平１１−８００８４ ：ブロモジフルオロ酢酸エステルの製造法
- 特開平１１−８００８５ ：グリオキシル酸エステル類の精製方法、およびグリオキシル酸エステル類の精製用蒸留装置
- 特開平１１−８００８６ ：ソルビトールモノエステル、ソルビトールジエステルおよび部分グリセリドの混合物を製造する方法
- 特開平１１−８００８７ ：高純度ピルビン酸低級アルキルエステルの製造法
- 特開平１１−８００８８ ：ピルビン酸エチルエステルの製造法
- 特開平１１−８００８９ ：ピルビン酸低級アルキルエステルの製造法
- 特開平１１−８００９０ ：液晶性（メタ）アクリレート化合物、該化合物を含有する組成物及びこれを用いた光学異方体
- 特開平１１−８００９１ ：α−アセチル桂皮酸誘導体、これを含有する紫外線吸収剤、皮膚外用剤及び毛髪化粧料
- 特開平１１−８００９２ ：液晶化合物
- 特開平１１−８００９３ ：非光学活性エステル化合物、液晶組成物および液晶素子
- 特開平１１−８００９４ ：液晶化合物、反強誘電性液晶組成物およびそれを用いた液晶素子
- 特開平１１−８００９５ ：炭酸ジメチルの製造方法
- 特開平１１−８００９６ ：炭酸ジメチルの製造方法
- 特開平１１−８００９７ ：光学活性ビシクロ誘導体の製造方法及び新規なビシクロ誘導体
- 特開平１１−８００９８ ：アミン誘導体、その製造法および剤
- 特開平１１−８００９９ ：（１Ｓ，２Ｒ）−１−アミノ−２−インダノール−（Ｒ，Ｒ）−タートレート メタノール溶媒和物の調製方法
- 特開平１１−８０１００ ：グロバリンの製造法
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